KRI 霍尔离子源 Gridless

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品,包含宽束霍尔离子源和电源控制器,整体设计,易于系统集成, 霍尔离子源典型应用:辅助镀膜 IABD,镀膜预清洁 ISSP,离子蚀刻等

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源
发散光束 >45

霍尔离子源 eH 200

eH200 是霍尔离子源型eH 系列中尺寸最小,低成本设计离子源

霍尔离子源 eH 400

霍尔离子源型号

eH 400,eH400 LEHO

Discharge size @ source

~ 4 cm

霍尔离子源 eH 1000

霍尔离子源型号

eH1000,eH1000L,eH1000xO2,eH1000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

霍尔离子源 eH 2000

霍尔离子源型号

eH2000,eH2000L,eH2000xO2,eH2000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

霍尔离子源 eH 3000

美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 , KRI 霍尔离子源 eH 系列里面尺寸最大, 能量最大的离子源

1

免责声明: 本站资料及图片来源互联网文章,本网不承担任何由内容信息所引起的争议和法律责任。所有作品版权归原创作者所有,与本站立场无关,如用户分享不慎侵犯了您的权益,请联系我们告知,我们将做删除处理!