KRI 考夫曼离子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

考夫曼离子源创始人 Dr.Harold R.Kaufman 简介

Kaufman 考夫曼博士 1926 年在美国出生,1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心,1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖。从 NASA 退休后,考夫曼博士在 1978 年成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司,开始研发生产适合工业使用的霍尔离子源考夫曼离子源

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源
发散光束 >45

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列

离子源通过加热灯丝产生离子束,低浓度高能量宽束型离子源
利用栅极控制离子束的浓度和方向, 离子束可选集中,平行,散设

KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列

射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长

霍尔离子源 eH 200

eH200 是霍尔离子源型eH 系列中尺寸最小,低成本设计离子源

霍尔离子源 eH 400

霍尔离子源型号

eH 400,eH400 LEHO

Discharge size @ source

~ 4 cm

霍尔离子源 eH 1000

霍尔离子源型号

eH1000,eH1000L,eH1000xO2,eH1000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

霍尔离子源 eH 2000

霍尔离子源型号

eH2000,eH2000L,eH2000xO2,eH2000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

考夫曼离子源 RFICP 40

目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

考夫曼离子源 RFICP 100

 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流

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